一、真空噴鑄甩帶熔煉爐 設(shè)備用途:

KSD-0.05真空熔煉甩帶一體爐是用來制備和開發(fā)亞穩(wěn)材料(如非晶態(tài)材料)的專用設(shè)備，該設(shè)備除了具有感應(yīng)爐的全部特點(diǎn)外，還具有制備塊體金屬非晶及金屬薄帶的功能,適用于各種非晶及微晶材料的研究及實(shí)驗(yàn)工作,，廣泛用于新型稀土永磁材料非晶軟磁材料及納米材料科學(xué)的開發(fā)與研究。

二、真空噴鑄甩帶熔煉爐 設(shè)備配置：

   設(shè)備有高真空腔室，高真空系統(tǒng)，甩帶收集裝置，穩(wěn)壓儲(chǔ)氣裝置，伺服甩帶裝置，坩堝升降裝置，感應(yīng)加熱裝置，水冷裝置等組成.

三、主要技術(shù)參數(shù)

1.產(chǎn)品型號(hào)：KSD-0.05

2.供電電源：三相五線 AC380V 50HZ 15KW

3.甩帶樣品熔煉量：10-50g;（注：用于做帶狀非晶）

4.輥輪尺寸：  φ200mmx40mm  φ240mmx40mm(可根據(jù)需要定制）表面光潔度0.8以上（注：甩帶一般是在1秒內(nèi)完成，銅輪溫升基本無變化）  銅輪配置兩個(gè)規(guī)格各一件

5.單棍旋轉(zhuǎn)裝置（甩帶）：銅棍速度：1-3000r/min;（注：伺服電機(jī)控制無極調(diào)速可實(shí)現(xiàn)線速度3-40m/s的線速度調(diào)節(jié)）

6. 甩帶升降：甩帶升降采用伺服電動(dòng)升降，可精密調(diào)節(jié)坩堝與銅輥的精確位置。

7.噴鑄容量：10-50g （注：用于做小塊非晶棒料，板料）                  

8·配置噴鑄模具1套（包含￠3*70mm  ￠5*70mm  ￠8*70mm三個(gè)規(guī)格 ）

9. 噴鑄升降：噴鑄升降采用氣缸電動(dòng)升降，可手動(dòng)精密調(diào)節(jié)坩堝與銅模之間的精確位置。