一、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設(shè)備用途 ：

用于熔煉高熔點(diǎn)金屬/合金，以及真空吸鑄法制備大塊非晶材料。適用于高校、科研院所進(jìn)行真空冶金新材料的科研與小批量制備。

二、真空吸鑄法制備非晶材料的第四代真空電弧爐設(shè)備主要技術(shù)參數(shù)：

1、型號(hào)：KDH-1000

2、電弧熔煉室：立式圓筒型真空室

3、真空系統(tǒng)配置：TRP-48直聯(lián)泵、旁路閥及管道組成。

4、冷態(tài)極限真空度≤5Pa

5、熔煉電流：額定電流1000A

6、腔室尺寸：￠400*410

7、電源功率：≤60KW

8、熔煉坩堝設(shè)計(jì)有五個(gè)?40*5圓片型工位，三個(gè)?20*10半球形工位。

其中5個(gè)工位可帶帶磁攪拌功能。

9、工作氣體：Ar氣；

10、翻料方式：手動(dòng)懸臂翻料，有機(jī)械手翻轉(zhuǎn)組件

11、電弧熔煉陰極裝置：引弧方式為高頻引弧

12、電極桿和機(jī)械手均采用球密封機(jī)構(gòu)，簡(jiǎn)便有效；電極桿升降搖擺全部采用電動(dòng)方式，設(shè)計(jì)手持式操作按鈕盒，無(wú)負(fù)重操作方便省力。

13、爐體側(cè)部開(kāi)門(mén)，裝卸料方便省去上部打開(kāi)爐蓋裝卸料的不便，門(mén)上有操作觀察窗方便看清內(nèi)部熔化情況。

14、控制方式：觸摸屏+plc

三、配置清單：

1、電弧熔煉真空室                      1臺(tái)

2、水冷電弧槍及電動(dòng)升降                1支

3、電弧熔煉電源                        1套

4、五工位水冷銅模                      1套

5、翻轉(zhuǎn)機(jī)械手                          1套

6、高真空系統(tǒng)（直聯(lián)泵+分子泵-高真空閥門(mén)）         1套   

7、惰氣充放系統(tǒng)                        1套

8、鎢電極針                           2件

9、電氣控制系統(tǒng)                        1套

10、產(chǎn)品合格證、使用說(shuō)明書(shū)             1份

11、產(chǎn)品技術(shù)資料（合格證使用說(shuō)明書(shū)等） 1份

12、備品備件及專(zhuān)用工具                  1套